商品一覧
取扱製品
| Thin Film Forming Equipment | プラズマＣＶＤ装置（ECR、ICP、SWP、CCP）
LPCVD装置
イオンビームスパッタリング装置
真空蒸着装置 |
| Thin Film Processing Equipment | エッチング装置（RIE、ICP） アッシング装置 |
| Heat Treatment Equipment | RTA装置
縦型高圧酸化装置 |
| Other Various Vacuum Equipment | その他真空装置各種 |
| Application | シリコン半導体
化合物半導体
太陽電池（結晶・薄膜）
有機ELディスプレイ
液晶（TFT LCD）
MEMS（マイクロマシン） |
Example of actual cases of applicationsリストを入力します。
| （Si半導体向け） |
縦型バッチ方式高圧酸化装置
MOCVD装置
O3/TEOS APCVD装置
RTA装置 |
| （化合物半導体向け） | 3・4元素MOCVD量産装置 |
| （太陽電池向け） | Si結晶系ＳｉＮｘ反射防止膜形成プラズマＣＶＤ装置
Si結晶系ＲＩＥエッチング装置
薄膜系発電層成膜プラズマＣＶＤ装置（a-Si, μc-Si, その他）
薄膜系電極形成スパッタリング装置
化合物（CIGS）アニール及び蒸着装置 |
| （有機EL） | 発光層形成蒸着装置
電極形成スパッタリング装置 |
| （MEMS向け） | RIEエッチング装置 |
| 上記にご紹介した装置は一例です。私共は、研究開発装置から量産機まで、 貴社のご要望に柔軟に対応いたします。 |
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